経営法務 R02年度 第8問

第8問

産業財産権に関する記述として、最も適切なものはどれか。

  1. 国内優先権制度は、特許法及び意匠法には存在するが、実用新案法及び商標法 には存在しない。
  2. 出願公開制度は、特許法及び商標法には存在するが、実用新案法及び意匠法に は存在しない。
  3. 存続期間の更新制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新 案法には存在しない。
  4. 訂正審判制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新案法に は存在しない。
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正解:

解答:イ

産業財産権4法(特許・実用新案・意匠・商標)の制度横断比較。各制度の有無を正確に押さえる。

  • ア(×):国内優先権制度は特許法・実用新案法に存在する(特許41条、実用新案8条)。意匠法・商標法にはない。組み合わせが誤り。
  • イ(○):出願公開制度は特許法(64条)と商標法(出願公開=商標12条の2)に存在し、実用新案(無審査登録で公開不要)と意匠(登録時公開)には出願公開制度がない。正しい。
  • ウ(×):存続期間の更新制度があるのは商標法のみ(商標19条2項)。意匠法には更新制度はない。組み合わせが誤り。
  • エ(×):訂正審判制度は特許法(126条)と実用新案法(実用新案14条の2の訂正等)に関係し、意匠法・商標法に訂正審判はない。記述の組み合わせが誤り。

よって

#特許・実用新案#意匠・商標

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